CVD涂層設(shè)備

CVD涂層設(shè)備技術(shù)參數(shù)

一、系統(tǒng)的主要組成及技術(shù)指標(biāo)
系統(tǒng)主要由涂層沉積真空室、外加熱爐、氣路系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)等組成，實(shí)現(xiàn)加溫后，通入工作氣體，實(shí)現(xiàn)樣品的涂層生長(zhǎng)等功能。
1.使用機(jī)械泵抽氣真空度可達(dá)到：1Pa；
2.*高溫度：1100℃；
3.真空室內(nèi)徑：230mm;
4.恒溫區(qū)范圍：600mm×230mm
5.進(jìn)氣管直徑：10mm
6.氫氣*大流量：30SLM; 氮?dú)?大流量：100SLM；甲烷*大流量：5SLM
7.浴槽罐的容量：5公斤；水浴加熱*高溫度：100℃；浴槽罐數(shù)量：2套
8.氣管加熱溫度：150℃